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              晶圓(芯片)減薄/研磨/拋光真空吸盤 grinding

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              減薄/研磨:




              1.通過減薄/研磨的方式對晶片襯底進行減薄,改善芯片散熱效果。

              2.減薄到一定厚度有利于后期封裝工藝。

              常規工藝:

              減薄/拋光到80-100um

              粗糙度: 5-20nm

              平整度: ±3um

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              2.減薄到一定厚度有利于后期封裝工藝。

              常規工藝:

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              粗糙度: 5-20nm

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